刻蚀机作为芯片制造三大主设备之一，是我国打破垄断、寻求“芯”突破的拳头产品。刻蚀技术为硅片上做“微雕”，因此对设备的精密性、稳定性要求极高，其关键难点在于保证晶圆表面的刻蚀一致性，而这很大程度上取决于刻蚀气体的馈入方式。喷淋盘则是刻蚀机馈入刻蚀气体的主要部件。
一个直径近半米的喷淋盘上，均匀地分布着几千个细小的圆孔，反应气体正是通过这些小孔进入反应腔体，在射频作用下形成均匀分布的等离子体。为了保证化学气体均匀地进入反应腔体，喷淋盘表面每一个圆孔的直径、内壁都要经得起检验。
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OPTIV ADVANCE 8.6.2
海克斯康凭借创新的软硬件技术，保证喷淋盘等大尺寸、
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